ASML, prodhuesi më i madh i pajisjeve të përdorura për prodhimin e gjysmëpërçuesve, deklaroi të hënën se ka hapur një laborator testimi për pajisjet e tij të litografisë High NA EUV, së bashku me firmën belge kërkimore të çipave Imec.
Laboratori në Veldhoven, Holandë, prej vitesh në përgatitje, do t’u japë prodhuesve kryesorë të çipave dhe kompanive të tjera të furnizimit me pajisje dhe materiale një shans të hershëm për të punuar me mjetin 350 milionë euro (380 milionë dollarë), i pari i këtij lloji.
ASML dominon tregun për pajisjet e litografisë, një hap qendror në procesin e prodhimit të çipave në të cilin rrezet e dritës përdoren për të krijuar qarkun e çipave.
Ndër prodhuesit e çipave, vetëm TSMC, Samsung, Intel dhe specialistët e memories SK Hynix dhe Samsung janë në gjendje të prodhojnë duke përdorur gjeneratën aktuale të makinerive ultraviolet, ose EUV të ASML.
Mjeti i ri High NA lejon deri në 60% rezolucion më të mirë dhe pritet të çojë në gjenerata të reja të çipave më të vegjël dhe më të shpejtë. ASML përsëriti të hënën se pret që klientët të fillojnë prodhimin komercial me mjetin në 2025-2026. Deri më tani ASML ka dërguar vetëm një makinë tjetër testimi, tek Intel në Shtetet e Bashkuara, e cila planifikon të përdorë mjetin në procesin e saj 14A në 2025.
ASML ka porosi për më shumë se një duzinë, megjithëse TSMC, klienti i saj më i madh për pajisjet EUV, ka thënë se nuk ka nevojë të përdorë mjetet High NA për çipat e saj A16, që pritet të hyjnë në prodhim në 2025.
Që nga viti 2015 nxisim shpirtin sipërmarrës, inovacionin dhe rritjen personale duke ndikuar në zhvillimin e një mjedisi motivues dhe pozitiv tek lexuesit tanë. Kjo punë që e bëjmë me shumë dashuri nuk ka të paguar. Ne jemi platforma e vetme e cila promovon modelin pozitiv të sipërmarrjes së lirë. Përmes kësaj platforme mbështesim edukimin gjatë gjithë jetës si mjet për zhvillimin personal dhe profesional të brezave. Kontributi juaj do të na ndihmojë në vazhdimin e këtij misioni në gjithë trevat shqipfolëse.
Mund të kontribuoni KETU. Falemnderit.
